Produse
-
Oxigen (O2)
Oxigenul este un gaz incolor și inodor.Este cea mai comună formă elementară de oxigen.În ceea ce privește tehnologia, oxigenul este extras din procesul de lichefiere a aerului, iar oxigenul din aer reprezintă aproximativ 21%.Oxigenul este un gaz incolor și inodor cu formula chimică O2, care este cea mai comună formă elementară de oxigen.Punctul de topire este -218,4°C, iar punctul de fierbere -183°C.Nu este ușor solubil în apă.Aproximativ 30 ml de oxigen se dizolvă în 1 l de apă, iar oxigenul lichid este albastru. -
Dioxid de sulf (SO2)
Dioxidul de sulf (dioxidul de sulf) este cel mai comun, cel mai simplu și mai iritant oxid de sulf cu formula chimică SO2.Dioxidul de sulf este un gaz incolor și transparent, cu un miros înțepător.Solubil în apă, etanol și eter, dioxidul de sulf lichid este relativ stabil, inactiv, incombustibil și nu formează un amestec exploziv cu aerul.Dioxidul de sulf are proprietăți de albire.Dioxidul de sulf este folosit în mod obișnuit în industrie pentru a înălbi celuloza, lâna, mătasea, pălăriile de paie etc. Dioxidul de sulf poate, de asemenea, inhiba creșterea mucegaiului și a bacteriilor. -
Oxid de etilenă (ETO)
Oxidul de etilenă este unul dintre cei mai simpli eteri ciclici.Este un compus heterociclic.Formula sa chimică este C2H4O.Este un cancerigen toxic și un produs petrochimic important.Proprietățile chimice ale oxidului de etilenă sunt foarte active.Poate suferi reacții de adiție de deschidere a inelului cu mulți compuși și poate reduce azotatul de argint. -
1,3 butadienă (C4H6)
1,3-Butadiena este un compus organic cu formula chimică C4H6.Este un gaz incolor, cu un ușor miros aromat și este ușor de lichefiat.Este mai puțin toxic și toxicitatea sa este similară cu cea a etilenei, dar are o iritare puternică a pielii și a mucoaselor și are efect anestezic la concentrații mari. -
Hidrogen (H2)
Hidrogenul are o formulă chimică de H2 și o greutate moleculară de 2,01588.La temperaturi și presiune normale, este un gaz extrem de inflamabil, incolor, transparent, inodor și fără gust, greu de dizolvat în apă și nu reacționează cu majoritatea substanțelor. -
Neon (Ne)
Neonul este un gaz rar incolor, inodor, neinflamabil, cu o formulă chimică de Ne.De obicei, neonul poate fi folosit ca gaz de umplere pentru lumini de neon colorate pentru afișaje publicitare exterioare și poate fi folosit și pentru indicatoare vizuale de lumină și pentru reglarea tensiunii.Și componente ale amestecului de gaz laser.Gazele nobile precum Neonul, Kryptonul și Xenonul pot fi, de asemenea, folosite pentru a umple produse din sticlă pentru a le îmbunătăți performanța sau funcționarea. -
Tetrafluorura de carbon (CF4)
Tetrafluorura de carbon, cunoscută și sub numele de tetrafluormetan, este un gaz incolor la temperatură și presiune normale, insolubil în apă.Gazul CF4 este în prezent cel mai utilizat gaz de gravare cu plasmă în industria microelectronică.De asemenea, este utilizat ca gaz laser, agent frigorific criogenic, solvent, lubrifiant, material izolator și lichid de răcire pentru tuburile detectoare cu infraroșu. -
Fluorura de sulfuril (F2O2S)
Fluorura de sulfuril SO2F2, gaz otrăvitor, este folosită în principal ca insecticid.Deoarece fluorura de sulfuril are caracteristici de difuzie și permeabilitate puternică, insecticid cu spectru larg, doză mică, cantitate reziduală scăzută, viteză rapidă de insecticid, timp scurt de dispersie a gazului, utilizare convenabilă la temperatură scăzută, fără efect asupra ratei de germinare și toxicitate scăzută, cu atât mai mult Este din ce în ce mai utilizat în depozite, nave de marfă, clădiri, baraje de rezervor, prevenirea termitelor etc. -
silan (SiH4)
Silanul SiH4 este un gaz comprimat incolor, toxic și foarte activ la temperatură și presiune normale.Silanul este utilizat pe scară largă în creșterea epitaxială a siliciului, materii prime pentru polisiliciu, oxid de siliciu, nitrură de siliciu etc., celule solare, fibre optice, fabricarea sticlei colorate și depunerea chimică în vapori. -
Octafluorociclobutan (C4F8)
Octafluorociclobutan C4F8, puritate a gazului: 99,999%, adesea folosit ca propulsor alimentar de aerosoli și gaz mediu.Este adesea folosit în procesul de semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition), C4F8 este folosit ca înlocuitor pentru CF4 sau C2F6, utilizat ca gaz de curățare și gaz de gravare a procesului de semiconductor. -
oxid nitric (NO)
Oxidul azotic gazos este un compus de azot cu formula chimică NO.Este un gaz otrăvitor incolor, inodor, insolubil în apă.Oxidul de azot este foarte reactiv din punct de vedere chimic și reacționează cu oxigenul pentru a forma dioxidul de azot (NO₂) gaz corosiv. -
Clorura de hidrogen (HCl)
Clorura de hidrogen HCL Gazul este un gaz incolor cu un miros înțepător.Soluția sa apoasă se numește acid clorhidric, cunoscut și sub denumirea de acid clorhidric.Clorura de hidrogen este folosită în principal pentru a face coloranți, condimente, medicamente, diverse cloruri și inhibitori de coroziune.
