Gaze speciale
-
Tetrafluorura de sulf (SF4)
EINECS NR: 232-013-4
NR CAS: 7783-60-0 -
Protoxid de azot (N2O)
Protoxidul de azot, cunoscut și sub numele de gaz râd, este o substanță chimică periculoasă cu formula chimică N2O.Este un gaz incolor, cu miros dulce.N2O este un oxidant care poate susține arderea în anumite condiții, dar este stabil la temperatura camerei și are un ușor efect anestezic.și poate face oamenii să râdă. -
Tetrafluorura de carbon (CF4)
Tetrafluorura de carbon, cunoscută și sub numele de tetrafluormetan, este un gaz incolor la temperatură și presiune normale, insolubil în apă.Gazul CF4 este în prezent cel mai utilizat gaz de gravare cu plasmă în industria microelectronică.De asemenea, este utilizat ca gaz laser, agent frigorific criogenic, solvent, lubrifiant, material izolator și lichid de răcire pentru tuburile detectoare cu infraroșu. -
Fluorura de sulfuril (F2O2S)
Fluorura de sulfuril SO2F2, gaz otrăvitor, este folosită în principal ca insecticid.Deoarece fluorura de sulfuril are caracteristici de difuzie și permeabilitate puternică, insecticid cu spectru larg, doză mică, cantitate reziduală scăzută, viteză rapidă de insecticid, timp scurt de dispersie a gazului, utilizare convenabilă la temperatură scăzută, fără efect asupra ratei de germinare și toxicitate scăzută, cu atât mai mult Este din ce în ce mai utilizat în depozite, nave de marfă, clădiri, baraje de rezervor, prevenirea termitelor etc. -
silan (SiH4)
Silanul SiH4 este un gaz comprimat incolor, toxic și foarte activ la temperatură și presiune normale.Silanul este utilizat pe scară largă în creșterea epitaxială a siliciului, materii prime pentru polisiliciu, oxid de siliciu, nitrură de siliciu etc., celule solare, fibre optice, fabricarea sticlei colorate și depunerea chimică în vapori. -
Octafluorociclobutan (C4F8)
Octafluorociclobutan C4F8, puritate a gazului: 99,999%, adesea folosit ca propulsor alimentar de aerosoli și gaz mediu.Este adesea folosit în procesul de semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition), C4F8 este folosit ca înlocuitor pentru CF4 sau C2F6, utilizat ca gaz de curățare și gaz de gravare a procesului de semiconductor. -
oxid nitric (NO)
Oxidul azotic gazos este un compus de azot cu formula chimică NO.Este un gaz otrăvitor incolor, inodor, insolubil în apă.Oxidul de azot este foarte reactiv din punct de vedere chimic și reacționează cu oxigenul pentru a forma dioxidul de azot (NO₂) gaz corosiv. -
Clorura de hidrogen (HCl)
Clorura de hidrogen HCL Gazul este un gaz incolor cu un miros înțepător.Soluția sa apoasă se numește acid clorhidric, cunoscut și sub denumirea de acid clorhidric.Clorura de hidrogen este folosită în principal pentru a face coloranți, condimente, medicamente, diverse cloruri și inhibitori de coroziune. -
Hexafluoropropilenă (C3F6)
Hexafluoropropilena, formula chimică: C3F6, este un gaz incolor la temperatură și presiune normale.Este utilizat în principal pentru a prepara diverse produse chimice fine care conțin fluor, intermediari farmaceutici, agenți de stingere a incendiilor etc. și poate fi, de asemenea, utilizat pentru a prepara materiale polimerice care conțin fluor. -
amoniac (NH3)
Amoniacul lichid / amoniacul anhidru este o materie primă chimică importantă cu o gamă largă de aplicații.Amoniacul lichid poate fi folosit ca agent frigorific.Este folosit în principal pentru a produce acid azotic, uree și alte îngrășăminte chimice și poate fi, de asemenea, folosit ca materie primă pentru medicamente și pesticide.În industria de apărare, este folosit pentru a produce propulsoare pentru rachete și rachete.
