Listă de prețuri ieftine pentru gaze speciale, China furnizează tetrafluorură de carbon/tetrafluorometan CF4, calitate electronică/semiconductoră, puritate 99,999%

„Sinceritate, Inovație, Rigurozitate și Eficiență” poate fi concepția persistentă a organizației noastre pe termen lung, pentru a stabili împreună cu clienții reciprocitate și câștig reciproc pentru Lista de prețuri ieftine pentru gaze speciale China Supply Electron/Semiconductor Grad 99.999% Puritate Carbon Tetrafluorură/Tetrafluorometan CF4 Preț. Fiind o companie tânără și în creștere, s-ar putea să nu fim cei mai buni, dar încercăm tot posibilul să fim partenerul dumneavoastră excelent.
„Sinceritate, Inovație, Rigurozitate și Eficiență” pot fi concepția persistentă a organizației noastre pe termen lung, pentru a stabili împreună cu clienții noștri reciprocitatea și câștigul reciproc.China CF4 și gaz CF4„Creăm valori, servim clienții!” este obiectivul pe care îl urmărim. Sperăm sincer că toți clienții vor stabili o cooperare pe termen lung și reciproc avantajoasă cu noi. Dacă doriți să obțineți mai multe detalii despre compania noastră, vă rugăm să ne contactați acum!

Parametri tehnici

Tetrafluorura de carbon este o hidrocarbură halogenată cu formula chimică CF4. Poate fi considerată o hidrocarbură halogenată, metan halogenat, perfluorocarbon sau un compus anorganic. Tetrafluorura de carbon este un gaz incolor și inodor, insolubil în apă, solubil în benzen și cloroform. Stabil la temperatură și presiune normale, evitați oxidanții puternici, materialele inflamabile sau combustibile. Gaz necombustibil, presiunea internă a recipientului va crește atunci când este expus la căldură ridicată, existând pericolul de fisurare și explozie. Este stabil chimic și neinflamabil. Doar reactivul metalic lichid amoniac-sodiu poate funcționa la temperatura camerei. Tetrafluorura de carbon este un gaz care provoacă efectul de seră. Este foarte stabilă, poate rămâne în atmosferă pentru o lungă perioadă de timp și este un gaz cu efect de seră foarte puternic. Tetrafluorura de carbon este utilizată în procesul de gravare cu plasmă a diferitelor circuite integrate. De asemenea, este utilizată ca gaz laser și este utilizată în agenți frigorigeni la temperatură joasă, solvenți, lubrifianți, materiale izolante și agenți de răcire pentru detectoarele cu infraroșu. Este cel mai utilizat gaz de gravare cu plasmă în industria microelectronică. Este un amestec de tetrafluorometan gaz de înaltă puritate și tetrafluorometan gaz de înaltă puritate și oxigen de înaltă puritate. Poate fi utilizat pe scară largă în siliciu, dioxid de siliciu, nitrură de siliciu și sticlă fosfosilicatică. Gravarea materialelor cu peliculă subțire, cum ar fi tungstenul și tungstenul, este, de asemenea, utilizată pe scară largă în curățarea suprafețelor dispozitivelor electronice, producția de celule solare, tehnologia laser, refrigerarea la temperatură joasă, inspecția scurgerilor și detergent în producția de circuite imprimate. Se utilizează ca agent frigorific la temperatură joasă și tehnologie de gravare uscată cu plasmă pentru circuite integrate. Precauții pentru depozitare: Depozitați într-un depozit de gaze necombustibile răcoros și ventilat. A se păstra departe de surse de foc și căldură. Temperatura de depozitare nu trebuie să depășească 30°C. Trebuie depozitat separat de combustibili și oxidanți ușor combustibili și evitați depozitarea mixtă. Zona de depozitare trebuie să fie echipată cu echipamente de tratare a scurgerilor în caz de urgență.

Aplicație:

① Agent frigorific:

Tetrafluorometanul este uneori utilizat ca agent frigorific la temperatură joasă.

② Gravare:

Se utilizează în microfabricarea electronicelor, singur sau în combinație cu oxigen, ca agent de gravare cu plasmă pentru siliciu, dioxid de siliciu și nitrură de siliciu.

Pachet normal:

Avantaj:

①Puritate ridicată, instalație de ultimă generație;

②Producător de certificate ISO;

③Livrare rapidă;

④Sistem de analiză online pentru controlul calității la fiecare etapă;

⑤ Cerințe ridicate și proces meticulos pentru manipularea buteliilor înainte de umplere;